氮化硼是一種化工添加劑，自然界是不存在的。目前所使用的氮化硼產品都是通過現代科技合成的。
      氮化硼問世于100多年前，最早的應用是作為高溫潤滑劑的六方氮化硼[簡稱：h—BN，或a—BN，或g—BN(即石墨型氮化硼)]，h—BN不僅其結構而且其性能也與石墨極為相似，且自身潔白，所以俗稱：白石墨。
氮化硼主要制作方法有：

高溫高壓合成法

     1957年Wentorf首次人工合成立方BN。在溫度接近或高于1700℃，最低壓強為11～12GPa時，由純六方氮化硼(HBN)直接轉變成立方氮化硼(CBN)。隨后人們發現使用催化劑可大幅度降低轉變溫度和壓力。常用的催化劑為：堿和堿土金屬、堿和堿土氮化物、堿土氟代氮化物、硼酸銨鹽和無機氟化物等。其中以硼酸銨鹽作催化劑所需的溫度和壓力最低，在1500℃時所需壓力為5GPa，而在壓力為6GPa時其溫度區間為600～700℃。由此可見，雖然加催化劑可大大降低轉變溫度和壓力，但所需的溫度和壓力還是較高。因而其制備的設備復雜、成本高，其工業應用受到限制。

化學氣相合成法

      1979年Sokolowski成功利用脈沖等離子體技術在低溫低壓下制備成立方氮化硼(CBN)膜。所用設備簡單，工藝易于實現，因此得到迅速發展。已出現多種氣相沉積方法。傳統來講主要是指熱化學氣相沉積。實驗裝置一般由耐熱石英管和加熱裝置組成，基體既可以通過加熱爐加熱(熱壁CVD)，也可以通過高頻感應加熱(冷壁CVD)。反應氣體在高溫基體表面發生分解，同時發生化學反應沉積成膜，反應氣體有BCl3或B2H4與NH3的混合氣體。

水熱合成法

       此方法是在高壓釜里的高溫、高壓反應環境中，采用水作為反應介質，使得通常難溶或不溶的物質溶解，反應還可進行重結晶。水熱技術具有兩個特點，一是其相對低的溫度，二是在封閉容器中進行，避免了組分揮發。作為一種低溫低壓合成方法，被用于在低溫下合成立方氮化硼。
苯熱合成法
     作為近幾年興起的一種低溫納米材料合成方法，苯熱合成受到廣泛關注。苯由于其穩定的共軛結構，是溶劑熱合成的優良溶劑，最近成功地發展成苯熱合成技術，如反應式：
BCl3+Li3N→BN+3LiCl或BBr3+Li3N→BN+3LiBr反應溫度只有450℃，苯熱合成技術可以在相對低的溫度和壓力下制備出通常在極端條件下才能制得的、在超高壓下才能存在的亞穩相。這種方法實現了低溫低壓制備立方氮化硼。但是這種方法尚處于實驗研究階段，是一種很有應用潛力的合成方法。
自蔓延技術
      利用外部提供必要的能量誘發高放熱化學反應，體系局部發生反應形成化學反應前沿(燃燒波)，化學反應在自身放出熱量的支持下快速進行，燃燒波蔓延整個體系。這種方法雖然是傳統的無機合成方法，但近幾年才有報道用于氮化硼的合成。

碳熱合成技術

         該方法是在碳化硅表面上，以硼酸為原料的，碳為還原劑，氨氣氮化得到氮化硼的方法，所得產物純度很高，對于復合材料的制備具有很大的應用價值。
離子束濺射技術
利用粒子束濺射沉積技術，得到立方氮化硼和六方氮化硼的混合產物。這種方法雖然雜質較少，但是由于反應條件難以控制，因此產物的形態難以控制，對這種方法的研究還有很大的發展潛力。
激光誘發還原法
用激光作為外加能源，誘發反應前驅體之間的氧化還原反應，并使B和N結合從而生成氮化硼，但是這種方法得到的也是混合相。