LI等指出，鎂合金表面磷化膜的生長可分為兩個階段：第Ⅰ階段為鎂合金表面微陽極(α相)和微陰極β相)的形成；第Ⅱ階段主要為Zn3(PO4)2·4H2O和金屬鋅分別在基體的口相和口相沉積。當基體完全覆蓋后，不會發生鋅和鎂的置換，只是Zn3(PO4)2·4H2O繼續長大形成厚片狀晶體，最終成膜。

周婉秋等采用磷酸鹽對鎂合金AZ91D及AZ31D表面進行處理，獲得了厚度約為10pm具有非晶態結構的轉化膜涂層。AZ91D鎂合金基體的微觀結構對初始形成的轉化膜及膜的形貌都有直接的影響。加入一定量的緩蝕劑，不僅可以提高轉化膜的耐蝕性，而且呵使轉化膜具有～定的自愈合能力。KOUISNI等對鎂合金AM60進行磷化處理時發現，轉化液的成分不同，膜的形成與長大的機制也不同。

周婉秋等提出了鎂合金AZ91D磷酸鹽化學轉化膜的成膜機理：在處理液中首先發生局部微電池腐蝕過程，陽極過程為α-Mg優先溶解，陰極析氫既可發生于α相上，又可發生于聲相上。在成膜初期，磷酸鹽在α相和β相都發生沉積反應，首先在陰極發生，然后主要在陽極發生。結晶形態分別為球狀和絮狀。但反應初期，在僅相上沉積速度高于在口相上沉積的速度。

所列為幾種磷酸鹽/高錳酸鉀化學轉化處理工藝，其膜層表面形貌如圖2所示。可見，由于工藝不同，得到的鎂合金表面轉化膜形貌及其質量差別較大。

膜層越均勻、致密，耐蝕性能越好。例如，表2中工藝4獲得的涂層腐蝕電流密度最低，僅為0.01mA/cm2；而3號涂層耐蝕性最差，腐蝕電流密度高達10mA/cm2。不含高錳酸鹽的單純磷酸鹽成膜液中，多以氯酸鹽、硝酸鹽或亞硝酸鹽等氧化性化合物為促進劑。促進劑的含量與高錳酸鹽相比要低得多，但溶液穩定性較差。

而對于高錳酸鹽/磷酸鹽體系，KmnO4起到了促進劑的作用，元素Mn還參與了成膜，其成膜機理與鉻酸鹽處理類似，不同的是高錳酸鉀足強氧化劑，還原時可形成溶解度較低的低價錳氧化物進入膜層。隨著時間的延長，膜層中錳的含量逐漸增加，膜層顏色也逐漸加深，這町能是岡為膜層巾形成錳的氧化物增多引起的。形成的磷化膜的主要成分為錳的氧化物和鎂的氟化物，膜厚為螄4～6μm。這種膜層為微孔結構，與基體結合牢固，具有良好的吸附性，其耐蝕性與鉻化膜相當，可以用作鎂合金加工工序間的短期防蝕或涂漆前的底層。

鎂合金無論是用磷酸鹽轉化處理還是用磷酸鹽/高錳酸鹽轉化處理，其最大的缺點是溶液的消耗很快，要不斷地校正溶液的濃度與酸度，使得高錳酸鹽/磷酸體系的應用受到了限制。pH值是最重要的影響因素。由于金屬在酸性條件下較容易失去電子而轉化為離子，這能促進合金基體與磷酸鹽的反應。

LI等研究了磷酸鹽轉化處理液的pH值對AZ91D鎂合金表面形成轉化膜的影響；當pH值為2.5時，轉化液由小薄片堆積而成花簇狀且膜層并未完全覆蓋基體表面；當DH值下降到2.15～2.5時，基體完傘由薄板樣的磷酸鹽轉化膜所覆蓋。同時，LI等還發現pH值對轉化膜的厚度以及轉化膜的抗腐蝕性能都有一定的影響。

UMEHARA等采用高錳酸鉀、硼酸鈉和鹽酸組成的轉化液，在pH值約為8時，對鎂合金表面進行轉化處理，獲得膜層的耐蝕性與含鉻成膜工藝相當。該膜層由MnO2、Mg的氧化物及氫氧化物組成，其優點是當樣品表面積與溶液體積比小于350cm2/L時，該轉化液的pH值基本不變，膜層質量十分穩定。趙明等通過鎂合金表面化學轉化處理獲得磷酸鹽/高錳脧鹽膜層，發現處理液中pH值為影響轉化膜層厚度和膜厚附著力最霞要的岡素：當pH＞4.0時，其附著力很好；當pH＜3.0時，雖然所得膜厚達20μm以上，但是不僅附著力很差，而且表面不斂密。

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